Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan hasil kerja yang telah dilakukan. Lampu pengeringan inframerah yang berkualiti tinggi dapat mengurangkan risiko ini, dengan menyediakan haba yang tepat di kawasan yang diperlukan – sama ada untuk mengeringkan wafer, memproses bahan fotoresist, atau membersihkan permukaan wafer. Semua proses ini memerlukan kawalan suhu yang ketat.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Lampu-lampu ini menggunakan sumber cahaya inframerah dekat (NIR), yang membolehkan pemanasan berlaku dengan cepat dan secara merata, serta membolehkan kawalan yang tepat terhadap spektrum haba yang dihasilkan. Dengan cara ini, suhu pada permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C, sehingga membolehkan kawalan yang lebih baik terhadap ketebalan garisan pada permukaan wafer, sekaligus mengelakkan masalah berkaitan kualiti produk.
Lampu-lampu ini direka khusus untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih tahap 1–100: bahan yang digunakan mempunyai pelepasan gas yang rendah, komponen yang digunakan adalah jenis kuarsa/halogen yang tahan lama, dan sistem ini mampu mengekalkan kebersihan yang tinggi. Pengeluaran zarah-zarah yang tidak diinginkan bukan sekadar perkara yang perlu dielakkan, tetapi merupakan syarat reka bentuk yang wajib dipenuhi. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan masa operasi yang panjang, jadi tiada masa henti yang tidak dirancang akan berlaku.
Mengapa kaedah ini berkesan dalam praktiknya
Dalam proses litografi, diperlukan proses pembakaran yang dapat menentukan viskositi dan daya lekat bahan tersebut, kemudian proses pembakaran yang lebih intensif untuk menghilangkan pelarut tanpa merosakkan bahan fotoresist. Dalam proses pembungkusan pula, bahan pengisi dan bahan pelindung perlu dikeringkan dengan cepat, tanpa menyebabkan keretakan pada komponen yang dibungkus. Dalam proses pembersihan dan pengeringan pula, kelembapan yang tinggal merupakan hal yang tidak boleh diterima.
Lampu NIR kami dapat memendekkan masa proses, sambil memastikan suhu tetap terkawal. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba hanya dihasilkan apabila diperlukan, bukan secara berterusan. Selain itu, kualiti hasil kerja dapat dikawal dengan baik dari satu batch ke batch yang lain, sehingga mengurangkan pembaziran bahan.
Inilah faktor-faktor yang perlu diambil kira
Proses pengeringan menggunakan lampu NIR memerlukan pandangan yang jelas antara lampu dan permukaan wafer. Bentuk permukaan wafer, kecerminan, dan keupayaan penyerapan cahaya semuanya mempengaruhi jumlah tenaga yang diserap. Oleh itu, kuasa lampu perlu disesuaikan agar sesuai dengan struktur wafer tersebut. Luas permukaan lampu juga perlu ditambah sedikit untuk memastikan seluruh permukaan wafer dapat diproses dengan baik. Selain itu, sistem elektrik dan termal yang digunakan juga perlu memenuhi standard bilik bersih.
Apabila sistem ini disesuaikan dengan betul, julat suhu yang boleh dicapai akan menjadi sempit – dan itulah tujuannya.