Dalam proses litografi, perubahan suhu semasa proses pemanasan yang berlaku secara perlahan merupakan faktor yang boleh merosakkan kualiti produk. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengacaukan kawalan dimensi kritis bahan yang digunakan. Kami telah mencipta lampu pemanasan inframerah yang mampu mengurangkan perubahan suhu tersebut dari sumbernya.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan elemen kuarsa yang bertindak balas dengan cepat. Dengan cara ini, proses pemanasan berlaku dengan cepat dan terkawal. Keterlambatan haba hampir tidak wujud. Untuk proses pemanasan bahan fotoresist, kami memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan. Ketepatan suhu antara setiap batch juga kekal dalam lingkungan ±0.5°C.
Keluaran lampu ini disesuaikan agar sesuai dengan keperluan bahan fotoresist – tiada lebihan atau kekurangan suhu. Selain itu, pembentukan zarah-zarah kecil juga dapat dikurangkan kepada sifar. Lampu ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Profil haba yang dihasilkan juga memenuhi standard peralatan semikonduktor antarabangsa. Ia merupakan penyelesaian yang telah terbukti efektif dalam penggunaan sebenar.
Mengapa ia berguna dalam proses pengeluaran
Kualiti dimensi kritis produk akan tetap stabil, sekali gus mengurangkan jumlah barang yang perlu diperbaiki. Proses pemanasan yang cepat membolehkan masa pemprosesan dikurangkan tanpa menjejaskan kualiti produk. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba dialirkan ke tempat yang diperlukan, bukan ke dinding bilik pemprosesan.
Ketahanan lampu ini sangat tinggi; ia boleh beroperasi selama 5,000 jam tanpa penurunan keluaran melebihi 5%. Ini memungkinkan proses pengeluaran berjalan tanpa gangguan.
Butiran praktikal
Pemasangan lampu ini melibatkan penyerasian saiz dan antara muka lampu dengan sistem pemprosesan yang sudah ada. Ada sedikit kerja integrasi mekanikal dan elektrikal yang diperlukan, tetapi ia bukan masalah besar. Proses penyesuaian memerlukan masa yang singkat untuk menyelaraskan suhu dengan bahan fotoresist dan substrat yang digunakan. Setelah diselaraskan, proses pemprosesan akan berjalan dengan lancar.