製造現場において、SRDプロセスでは、わずかな不具合がすぐに品質低下を引き起こす可能性があります。たとえわずかに点灯しなくなっただけでも、水痕が残ったり、粒子数が急増したりして、良質なウェーハがスクラップになってしまいます。私たちは、このような問題を解決するために、特殊な赤外線ランプを開発しました。
重要なポイント このランプは、石英光学素子を使用した短波長赤外線放射体を搭載しており、エネルギーを直接洗浄・乾燥工程に供給します。チャンバ内の温度均一性は±0.1°C以内に保たれるため、すべてのウェーハが同じ条件で処理されます。設定値の変更も200ms未満で行えるため、過剰な制御が発生することはありません。
また、クラス1からクラス100までのクリーンルーム環境に対応しています。ケースは密閉されており、放射体の配置も粒子が飛散しないように工夫されています。出力は5,000時間以上安定しており、強度の変動も5％未満です。
SRDプロセスで性能を発揮する理由 SRDプロセスでは、フォトレジストに負担をかけず、パターンを損傷させないように、一貫した乾燥が求められます。このランプの迅速な温度調整機能により、温度プロファイルが規定値内に保たれ、ソフトベイクやハードベイク後でもフォトレジストの品質が維持されます。
その結果、再現性の高い乾燥処理が実現し、不良率が低下し、再加工が必要なウェーハの数も減ります。また、放射体が迅速に設定値に到達し、安定して動作するため、廃熱がチャンバ内に放出されることもなく、稼働時間も延びます。ドライバーは24時間365日の運用に耐えられるように設計されており、ランプ自体も長寿命を実現するように設計されています。
成功をもたらす詳細な仕様 このランプは標準的なSRD用サイズに合致していますが、実際の組み込み時には、装置の形状や空気流れ、チャンバ壁の放射率などを考慮する必要があります。取り付けインターフェースや冷却装置の負荷も確認してください。冷却が適切でなければ、温度均一性が低下してしまいます。
ウェーハの状態やラインの条件に合わせて、十分なテストを行い、最適な設定を見つける必要があります。