Litografi işlemlerinde, yumuşak veya sert pişirme işlemleri sırasında meydana gelen yarım derece Celsius’luk değişimler küçük sapmalar değildir; bu durum verimlilik kaybına neden olur. Fotoresist profilleri değişir, kritik boyutlar etkilenir ve hatlar, hedeflenen değerlerin yerine sapmaların peşinden gitmeye başlar. Kaplama/cihazlandırma işlemlerinde ise termal işlemler, tekrarlanabilirliğin sağlanmasında ya da bozulmasında belirleyici rol oynar.
Kızılötesi Isıtma Hassasiyeti: Sub-milimetre Seviyesinde Eşitlik ve Tekrarlanabilirlik Kaplama/cihazlandırma işlemleri için kullandığımız kızılötesi ısıtıcılar, tasarlanmış bir radyasyon dağılımına sahip olan kısa dalga uzunluğunda NIR sistemleri üzerine kurulmuştur. Böylece yonga yüzeyinde sub-milimetre seviyesinde eşitlik sağlanır ve böylece yonga düzeyinde sıcaklık kontrolü mümkün olur. Tekrarlanabilirlik ise kapalı döngü kalibrasyonu ve stabil emisivite yönetimi sayesinde sağlanır; böylece her pişirme işlemi aynı şekilde gerçekleşir. Burada amaç maksimum sıcaklığa ulaşmak değil, fotoresistin maruz kaldığı tüm termal etkenleri kontrol etmektir.
Neden Yarı İletken Üretim Süreçlerine Uygun? Class 1–100 temiz odalarında, parçacık üretimi de sıcaklık hataları kadar ciddi bir sorundur. Parçacık sayısını azaltacak şekilde ısıtıcı geometrisi ve malzemeleri seçtik; ayrıca yongayı kirletebilecek herhangi bir gaz salınımı olmuyor. Sistem, hem yumuşak hem de sert pişirme işlemlerinde fotoresistin hassasiyetini korur; viskozite, çözücü uzaklaştırma ve yapışma özellikleri de stabil kalır. Bu stabilite, kalifikasyon süreçlerini kısaltır ve atık miktarını azaltır.
Enerji kullanımı azalır, çünkü kızılötesi ısı doğrudan ısı aktarımı sağlar; böylece ısıtma hızlı olur ve kontrol edilmesi gereken termal kütle çok azdır. Güvenilirlik açısından ise sistem 24/7 çalışabilir; bakım aralıkları daha azdır ve değiştirme işlemleri öngörülebilirdir.
Pratik Uygulama Notları Çoğu kaplama/cihazlandırma platformunda montaj oldukça basittir; ancak termal arayüzler önemlidir. Isıtıcının montajı mevcut plakaya uygun olmalı ve temas yüzeyinin emisivitesi kontrol edilmelidir; aksi takdirde ayarlanan sıcaklık değerleri değişebilir. PID ayarlarını yapmak ve belirli fotoresist kombinasyonları için eşitlik haritalarını doğrulamak için kısa bir test süreci gereklidir.
Bir kısıtlama ise şudur: Kızılötesi ışının yoğunluğu, substratın ve taşıyıcıların termal kütlesine uygun olmalıdır. Çok ince filmler veya özel substratlar için aşırı ısınmayı önlemek amacıyla özel bir güç profili gerekebilir.