제조 현장에서 SRD 공정에서는 수율이 순식간에 떨어질 수 있습니다. 약간만 문제가 생겨도 웨이퍼에 얼룩이 생기고, 입자 수가 증가하여 양질의 웨이퍼들이 폐기물이 되어버립니다. 저희는 이러한 변동성을 해결하기 위해 특수한 적외선 램프를 개발했습니다.
중요한 요소들 이 램프는 석영 광학 장치를 사용하여 단파 적외선을 방출하며, 그 에너지는 직접 세척 및 건조 단계로 전달됩니다. 챔버 내부의 온도는 ±0.1°C 이내로 유지되므로 모든 웨이퍼가 동일한 열 조건을 받게 됩니다. 설정값 변경은 200ms 이내에 이루어져 과도한 제어 없이도 정확한 제어가 가능합니다.
이 램프는 클래스 1부터 클래스 100까지의 클린룸 환경에서도 사용할 수 있습니다. 하우징은 밀폐되어 있으며, 램프의 발광 경로도 입자가 나오지 않도록 설계되어 있습니다. 출력은 5,000시간 이상 안정적으로 유지되며, 강도의 변화는 5% 미만입니다.
SRD 공정에서의 장점 SRD 공정에서는 포토레지스트에 부담을 주거나 패턴을 손상시키지 않으면서 일관된 건조 효과를 얻어야 합니다. 이 램프의 빠른 반응 속도 덕분에 챔버 내부의 온도가 일정하게 유지되므로, 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정 후에도 포토레지스트의 상태가 그대로 유지됩니다.
그 결과, 일관된 건조 효과가 나타나고 결함 발생률이 줄어들며, 재작업이 필요한 경우도 줄어듭니다. 또한, 램프가 빠르게 설정된 온도에 도달하고 그 상태를 유지하기 때문에 낭비되는 열도 줄어듭니다. 따라서 가동 시간도 향상됩니다. 드라이버는 24/7 연속 작동을 위해 설계되었으며, 램프 자체도 오랫동안 사용할 수 있도록 설계되었습니다.
성능을 결정하는 세부 사항들 이 램프는 표준 SRD 장착 공간에 맞지만, 실제 장착 시에는 장비의 구조, 공기 흐름, 그리고 챔버 벽의 방사율을 고려해야 합니다. 장착 인터페이스와 냉각 시스템의 열 부하를 반드시 확인해야 합니다. 냉각이 제대로 이루어지지 않으면 온도의 균일성이 떨어집니다.
웨이퍼와 공정 조건에 맞게 램프를 조정하기 위해서는 짧은 시간 동안의 테스트가 필요합니다.