در مرحله پس از تمیزکاری، میتوانید همه کارها را به درستی انجام دهید؛ اما اگر ویفر به طور یکنواخت خشک نشود یا دمای پخت تغییر کند، همچنان ممکن است مشکلاتی رخ دهد. عدم یکنواختی دما منجر به ایجاد لکهها، پوستهشدن سطح وجه وجه و مشکلات دیگر میشود. ما گرمکنهای مادون قرمز برای مرحله پس از تمیزکاری ساختهایم تا این مشکلات را برطرف کنند؛ این گرمکنها کنترل دمایی دقیقی را در سطح ویفر فراهم میکنند.
نکات فنی مهم:
ما از موجهای کوتاه مادون قرمز با پاسخگویی سریع و کنترل طیفی دقیق استفاده میکنیم؛ این روش با نحوه جذب آب و فوتورزیست توسط ویفر هماهنگ است. این روش باعث میشود یکنواختی دما در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد در سطح ویفر حفظ شود. تکرارپذیری دما نیز در حدود ±۰.۲ درجه سانتیگراد است؛ بنابراین فرآیندهایی که نیاز به دقت دمایی بالایی دارند، مانند پخت نرم، پخت سخت و خشک کردن ویفر پس از تمیزکاری، در چارچوب مجاز دمایی باقی میمانند. این سیستم برای استفاده در اتاقهای پاک با کلاس ۱ تا ۱۰۰ طراحی شده است؛ همچنین، طراحی این سیستم به گونهای است که در حین کار، هیچ ذرهای اضافه نشود.
چرا این روش در عمل مؤثر است؟
در مرحله پس از تمیزکاری، موجهای مادون قرمز میتوانند به درون ساختارهای ریز ویفر نفوذ کرده و رطوبت را از بین ببرند؛ بنابراین خشک شدن ویفر بلافاصله و بدون باقی ماندن رسیدگی انجام میشود. در فرآیند لیتوگرافی نیز، همین سیستم دمای پخت نرم را تثبیت میکند؛ در نتیجه، حذف حلالها و شکلدهی به لایههای روی ویفر به طور دقیق انجام میشود. سپس میتوان از روش پخت سخت برای تثبیت لایهها استفاده کرد. سرعت بالای این سیستم باعث کاهش زمان انجام فرآیند میشود؛ همچنین، تنظیمات دقیق باعث کاهش مواد بازیافتی و کارهای تکراری میشود. مصرف انرژی نیز به حد معقولی میماند؛ زیرا فقط ویفر گرم میشود، نه کل اتاق.
چه چیزهایی باید در هنگام نصب در نظر گرفته شود؟
باید رابط اتصال ابزارها و مسیرهای خروجی گازها را به درستی تنظیم کرد تا فشار و دمای اتاق پاک ثابت بماند. گرمکنها از استانداردهای SECS/GEM استفاده میکنند؛ اما اگر قرار است این گرمکنها در سیستمهای قدیمی استفاده شوند، نیاز به ساختارهای ویژه و روالهای کالیبراسیون خاصی وجود دارد. همچنین، باید یک آزمایش کوتاه انجام شود تا میزان تابش گرمکنها و یکنواختی دما مشخص شود.