Hören Sie auf zu warten – Warum Infrarotheizung im Waferverarbeitungsprozess überlegen ist
Wenn Sie immer noch gezwungenermaßen heiße Luft zur Verarbeitung von Halbleitern verwenden, warten Sie im Grunde darauf, dass der Raum erst einmal auf die richtige Temperatur kommt, bevor Sie mit der Arbeit beginnen können. Das ist sehr langsam.
Die Konvektion durch Luft ist einfach unpraktisch. Zuerst muss die Luft erhitzt werden, anschließend heizt diese Luft wiederum den Wafer. Es entsteht eine lästige Wartezeit, während man nur auf den Timer schaut und darauf wartet, dass die Temperatur ansteigt.
Infrarot ändert das Spiel.
Anstatt die Luft um den Wafer herum zu erhitzen, trifft das Infrarotlicht direkt auf die Oberfläche des Wafers. Das ist wie der Unterschied zwischen dem Versuch, sich die Hände zu erwärmen, indem man den gesamten Wohnraum erhitzt, und dem Versuch, sie einfach vor einen Kamin zu halten.
Das Problem der Wartezeit
Wir alle kennen die thermische Trägheit. Das ist diese frustrierende Situation, in der die Maschine zwar „startet“,但实际上 nichts passiert.
Mit Infrarotsensoren und -emittenten kann man die gewünschte Temperatur bereits in Sekunden erreichen – nicht in Minuten. Dadurch wird das größte Hindernis in der Produktionslinie beseitigt, und man kann endlich weiterarbeiten.
Weniger Platzbedarf, mehr Kontrolle
Noch ein Vorteil: Der Platzbedarf.
Gezwungene Luftströmungen erfordern Lüfter, Leitungen sowie viel physischer Raum. Infrarottlampen hingegen sind viel kleiner. Man kann sie direkt neben dem Substrat platzieren – dadurch entsteht eine viel höhere Wärmedichte.
Aber Achtung: Man kann diese Lampen nicht einfach so einbauen und dann vergessen. Hochleistungs-Infrarottlampen erzeugen viel Strahlungswärme, die in den Rahmen der Maschine eindringen kann. Wenn die Kühlung nicht ausreicht, können die Sensoren ungenau werden – und man muss alles neu kalibrieren.
Mehr Leistung
Letztendlich geht es beim Übergang auf Infrarotheizung darum, mehr Leistung zu erzielen. Man muss nicht mehr gegen die Bewegung der Luft kämpfen, sondern kann Energie nutzen, die sofort wirkt. So verbringt man weniger Zeit damit zu warten, bis die Kammer stabil ist, und kann stattdessen mehr Zeit damit verbringen, Wafers zu verarbeiten.
Es handelt sich dabei um einen einfachen Tausch: Man gibt die langsame, unpräzise Methode der Konvektion auf und nutzt stattdessen eine schnelle und präzise Methode. Und Ihr Zeitplan wird es Ihnen danken.