在光刻工艺中，温和烘烤过程中的温度波动其实是个隐蔽的隐患，往往要等到CD-SEM开始出现问题时才会被发现。如果晶圆表面的温度差异达到0.5°C，那么对关键尺寸的控制就会变得非常困难。我们设计的红外线温和烘烤灯，就是为了从源头减少这种温度波动。
关键参数
我们使用具有快速响应特性的石英元件来产生短波红外光，这样就能实现快速且精准的加热效果。热延迟几乎可以忽略不计。对于光阻材料的温和烘烤而言，我们能确保整个处理区域内的温度均匀性在±0.1°C范围内，而不同批次之间的温度稳定性则保持在±0.5°C以内。
此外，该设备的输出功率经过精心调整，既不会过度加热，也不会加热不足，同时还能完全避免颗粒的产生。该灯具适用于1级至100级的洁净室环境，其温度控制性能也符合国际半导体设备标准。这是一种经过实际验证的解决方案。
为何适合生产环境
使用该设备后，关键尺寸的稳定性得到了保障，从而减少了返工次数。快速的升温速度使得烘烤过程更加高效，同时不会影响产品质量。另外，由于热量被精确地引导到需要加热的地方，因此能耗也会降低。
该设备的可靠性极高，其使用寿命可达5,000小时以上，且性能下降幅度不到5%。这样一来，生产线就可以全天候运转，无需频繁停机维护。
安装与调试
安装时只需将灯具的尺寸和接口与现有的轨道或涂覆/烘烤模块相匹配即可。虽然需要一些机械和电气方面的整合工作，但难度并不大，不过还是需要提前做好规划。
调试过程需要一定的时间，以便让设备的温度控制参数与光阻材料和基板的特性相匹配。一旦调试完成，设备的性能就能保持稳定。