Tijdens het proces kan alles precies worden geregeld, tot en met de droogtijd na het reinigen. Toch kan er nog steeds een probleem optreden als de wafer ongelijkmatig droogt of als de temperatuur niet stabiel blijft. Onregelmatigheden in de temperatuur leiden tot problemen zoals watervlekken, oppervlakteschade en oneffenheden aan de randen van de wafer. We hebben onze infraroodverwarmers speciaal ontworpen om deze problemen te voorkomen. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer nauwkeurig geregeld.
Wat technisch belangrijk is
We gebruiken kortgolfinfraroodlicht met een snelle respons en nauwkeurige spectrale controle. Dit past bij de manier waarop water en fotoresist worden opgenomen door het materiaal. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer nauwkeurig geregeld, binnen een marge van ±0,1°C, zelfs op substraatdiktes van 150–300 mm. De herhaalbaarheid van de temperatuur ligt bij ±0,2°C per cyclus. Hierdoor blijven alle stappen die gevoelig zijn voor temperatuurschommelingen – zoals zacht en hard bakken en het drogen na het reinigen – binnen de gewenste temperatuurbereik. De platform is ontworpen voor gebruik in schoonruimten van klasse 1–100. Het ontwerp zorgt er bovendien voor dat er geen nieuwe deeltjes vrijkomen tijdens het gebruik.
Waarom het in de praktijk werkt
Tijdens het reinigen dringt het infraroodlicht door tot in de kleinste details van de wafer en verwijdert het het vocht, zonder dat er schade aan het oppervlak ontstaat. Hierdoor vindt er een snel en effectief drogingssysteem plaats. Tijdens de lithografieproces stabiliseert dezelfde platform de temperatuur tijdens het zacht bakken. Hierdoor kan het oplosmiddel nauwkeurig worden verwijderd en kan het filmpatroon worden gereguleerd. Vervolgens kan het proces overgaan op hard bakken, zodat het materiaal goed kan drogen. De snelle temperatuurregeling verkort de cyclustijd. Bovendien leidt de nauwkeurige temperatuurregeling tot minder afval en herwerkzaamheden. De energieverbruik blijft ook beperkt: er wordt alleen de waferverwarmd, niet de hele kamer.
Wat je moet plannen bij de installatie
Je moet ervoor zorgen dat de interface tussen de apparaten en de afvoer van lucht goed is georganiseerd, zodat de druk en temperatuur in de schoonruimte stabiel blijven. De verwarmer gebruikt het standaardprotocol SECS/GEM. Als je ze echter in een oudere platform wilt gebruiken, zal je een gespecialiseerde bevestigingsoplossing en een kalibratiemethode nodig hebben. Plan ook een kort testproces in, om de emissiviteit te meten en de uniformiteit te controleren, in relatie tot je specifieke filmsamenstelling.