<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Drayer Là Một L on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/vi/tags/drayer-l%C3%A0-m%E1%BB%99t-l/</link>
		<description>Recent content in Drayer Là Một L on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 12:08:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/vi/tags/drayer-l%C3%A0-m%E1%BB%99t-l/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bộ điều khiển máy sấy hồng ngoại kỹ thuật số</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/vi/posts/digital-infrared-dryer-controller/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 12:08:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/vi/posts/digital-infrared-dryer-controller/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Bộ điều khiển máy sấy hồng ngoại kỹ thuật số&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Tại sao chúng ta chuyển sang phương pháp khử ẩm bằng bức xạ hồng ngoại cho các chip không chứa chì&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ngành bán dẫn cuối cùng cũng đang dần từ bỏ những lò sấy truyền thống và phương pháp sấy bằng dung môi. Thực ra, đã đến lúc cần làm vậy rồi. Chúng ta đang thay thế phương pháp sấy bằng nhiệt đối lưu truyền thống bằng các bộ điều khiển sấy bằng bức xạ hồng ngoại.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Máy sấy làm sạch giá đỡ wafer</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/vi/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/vi/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Máy sấy làm sạch giá đỡ wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Out on the fab floor, bạn quan sát một bộ giữ &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; vừa ra khỏi bể rửa, nhưng bước sấy lại gây khó khăn cho bạn. Bạn đã quen với tình trạng này—độ ẩm còn sót lại, ứng suất nhiệt và các hạt bụi bay &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;trong&lt;/a&gt; không khí xuyên thẳng vào làm hỏng tỉ lệ sản phẩm và lớp photoresist. Độ đồng đều nhiệt không phải thứ bạn có thể mạo hiểm.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Điều thực sự quan trọng bên trong thiết bị&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Máy sấy bộ giữ wafer này duy trì độ đồng đều nhiệt ±0.1°C trên toàn buồng, tránh các vùng nhiệt nóng hoặc lạnh cục bộ làm mất ổn định photoresist trong quá trình soft bake và hard bake. Thiết bị được thiết kế cho phòng sạch Class 1–100, với luồng khí laminar và bộ lọc HEPA giữ mật độ hạt bụi dưới 0.3 μm với hiệu suất 99.99%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
