
На етапі літографії незначні коливання температури під час процесу нагрівання є причиною зниження якості продукції – проблема, яку не можна помітити, поки обладнання CD-SEM не почне сигналізувати про проблеми. Навіть незначна різниця температури у 0,5°C призводить до порушення контролю критичних розмірів деталей. Ми створили інфрачервоні лампи для швидкого нагрівання, щоб мінімізувати такі коливання.
Що є важливим у цьому процесі? Ми використовуємо інфрачервоні випромінювачі з кварцовими елементами швидкої реакції, тож нагрів відбувається швидко та локалізовано. Теплова затримка мінімальна. Під час процесу нагрівання фотополімеру ми підтримуємо однорідність температури на всій поверхні поверхні кристала на рівні ±0,1°C, а точність встановлення температури становить ±0,5°C від партії до партії.
Режим роботи лампи налаштовується відповідно до теплових характеристик фотополімеру – без перегріву та недогріву. Крім того, ми запобігаємо утворенню частинок. Лампа підходить для використання в чистих кімнатах класу 1–100. Її тепловий профіль відповідає міжнародним стандартам обладнання для виробництва напівпровідників. Це рішення вже перевірено на практиці.
Чому це корисно у виробництві? Стабільність критичних розмірів деталей є ключовою перевагою цього рішення – це означає менше необхідності переробки продукції. Швидке нагрівання дозволяє скоротити час процесу без погіршення якості продукції. Використання енергії також зменшується, оскільки тепло потрапляє саме туди, де це необхідно, а не на стіни камери.
Надійність цього обладнання є гарантованою – пристрої працюють більше 5,000 годин зі зниженням продуктивності менше ніж на 5%. Це дозволяє безперервно працювати обладнанню та уникати непланових перерв.
Практичні деталі Встановлення лампи полягає у підборі її розмірів та інтерфейсу відповідно до вашого обладнання. Потрібно врахувати певні механічні та електричні аспекти – це не є складним, але потрібно це врахувати.
Налаштування обладнання займає невеликий час – достатньо лише налаштувати температурний режим відповідно до характеристик фотополімеру та підложки. Після налаштування процес залишається стабільним.