<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>ดรีเออร์ on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/th/tags/%E0%B8%94%E0%B8%A3%E0%B8%B5%E0%B9%80%E0%B8%AD%E0%B8%AD%E0%B8%A3%E0%B9%8C/</link>
		<description>Recent content in ดรีเออร์ on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>th</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 12:08:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/th/tags/%E0%B8%94%E0%B8%A3%E0%B8%B5%E0%B9%80%E0%B8%AD%E0%B8%AD%E0%B8%A3%E0%B9%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ตัวควบคุมเครื่องอบด้วยคลื่นอินฟราเรดแบบดิจิทัล</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/th/posts/digital-infrared-dryer-controller/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 12:08:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/th/posts/digital-infrared-dryer-controller/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ตัวควบคุมเครื่องอบด้วยคลื่นอินฟราเรดแบบดิจิทัล&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;เหตุใดเราจึงหันมาใช้เทคโนโลยี IR ในการอบแห้งชิปที่ไม่มีส่วนผสมของตะกั่ว&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;วงการ semiconductors กำลังเปลี่ยนมาใช้วิธีการอบแห้งแบบใช้รังสีอินฟราเรดแทนวิธีการอบด้วยความร้อนแบบเก่าๆ หรือการใช้สารละลายในการอบแห้ง จริงๆ แล้วก็ถึงเวลาที่ควรจะเปลี่ยนแล้ว เราเริ่มหันมาใช้ตัวควบคุมการอบแห้งแบบดิจิทัลที่ใช้รังสีอินฟราเรดแทนวิธีการอบแห้งแบบดั้งเดิม&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;ความแตกต่างอยู่ที่ไหน?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;รังสีอินฟราเรดใช้รังสีในการถ่ายเทความร้อน แทนการพ่นอากาศร้อนออกมา วิธีนี้ช่วยให้กระบวนการอบแห้งเกิดขึ้นได้อย่างมีประสิทธิภาพมากขึ้น และยังช่วยให้กระบวนการผลิตเป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมมากขึ้นอีกด้วย&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;วิธีการทำงาน&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ลองนึกถึงเตาอบธรรมดาๆ ดูสิ มันจะทำให้อากาศร้อนขึ้น แล้วอากาศร้อนนั้นจะถ่ายเทความร้อนไปยังวัสดุที่เราต้องการอบแห้ง วิธีนี้ช้ามาก และยังสิ้นเปลืองพลังงานอีกด้วย นอกจากนี้ ยังมีความเสี่ยงที่ฝุ่นหรือสิ่งสกปรกจะติดอยู่บนวัสดุที่เราอบแห้งอีกด้วย&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ส่วนรังสีอินฟราเรดนั้นแตกต่างออกไป หลอดไฟจะปล่อยคลื่นแม่เหล็กไฟฟ้าออกมา ซึ่งจะไปกระทบตรงกับสารละลายหรือสารที่ใช้ในการอบแห้งโดยตรง วิธีนี้ช่วยให้ความร้อนถูกส่งไปยังจุดที่ต้องการได้อย่างรวดเร็ว และไม่ทำให้เครื่องจักรร้อนเกินไป นอกจากนี้ ยังช่วยลดค่าใช้จ่ายด้านพลังงานอีกด้วย&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;การควบคุมความร้อนให้เหมาะสม&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;คุณไม่สามารถเปิดหลอดไฟอินฟราเรดแล้วปล่อยให้มันทำงานไปเรื่อยๆ ได้ หากทำเช่นนั้น อาจทำให้วัสดุที่เราอบแห้งเสียหายได้&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ดังนั้นเราจึงใช้ตัวควบคุมแบบดิจิทัลเพื่อควบคุมปริมาณไฟฟ้าที่ใช้ ทำให้ความร้อนอยู่ในระดับที่เหมาะสม วิธีนี้ช่วยลดการเสียหายของวัสดุและลดขยะที่เกิดขึ้นได้อีกด้วย&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;ข้อเสีย&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;แม้ว่าวิธีนี้จะดีมาก แต่ก็ไม่ใช่ว่าจะไม่มีข้อเสียเลย การเลิกใช้สารเคมีที่มี VOC สูง และหลอดไฟ UV ที่ก่อให้เกิดโอโซน ช่วยลดการปล่อยก๊าซคาร์บอนไดออกไซด์ได้จริง แต่ข้อเสียก็คือความร้อนที่เกิดขึ้นนั้นมีความเข้มสูงมาก ดังนั้นหากไม่มีระบบระบายความร้อนที่ดี หลอดไฟก็จะทำงานหนักเกินไป และอาจเสียหายได้เร็วขึ้น&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;การนำไปใช้&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;เทคโนโลยีนี้เหมาะสำหรับการยึดวัสดุด้วยกาว หรือการอบแห้งสารเคลือบวงจรไฟฟ้า เนื่องจากไม่มีการเผาไหม้หรือการใช้สารละลายในการอบแห้ง ดังนั้นแหล่งความร้อนก็จะสะอาด ไม่มีตะกั่ว และไม่มีสิ่งสกปรก วิธีนี้จึงเป็นวิธีที่ดีกว่าวิธีการอบแห้งแบบเก่าๆ&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>เครื่องอบทำความสะอาดตลับแผ่นเวเฟอร์</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/th/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/th/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;เครื่องอบทำความสะอาดตลับแผ่นเวเฟอร์&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Out on the fab floor, you watch a wafer carrier come out of the cleaning bath, only to watch the drying step fight you. You know the &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;drill&lt;/a&gt;—residual &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;moisture&lt;/a&gt;, thermal stress, and airborne particles that punch straight through to yield and photoresist defects. Thermal &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;uniformity&lt;/a&gt; isn’t something you get to gamble on.&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;What actually matters under the hood&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;เครื่องอบแห้งทำความสะอาด wafer carrier ตัวนี้รักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิ ±0.1°C ทั่วทั้งห้อง ทำให้ไม่มีจุดร้อนหรือจุดเย็นที่ส่งผลกระทบต่อเสถียรภาพของ photoresist ในระหว่างการอบ soft bake และ hard bake ออกแบบสำหรับ cleanroom ระดับ Class 1–100 พร้อมการไหลของอากาศแบบ laminar และการกรอง HEPA ที่ควบคุมจำนวนอนุภาคให้ต่ำกว่า 0.3 μm ด้วยประสิทธิภาพ 99.99%&lt;br&gt;&#xA;การไม่สร้างอนุภาคเลยไม่ใช่แค่คำโฆษณา แต่เป็นข้อกำหนดที่ได้รับการตรวจสอบด้วยการวัดแบบ in-line metrology ความสามารถในการทำซ้ำของโปรไฟล์อุณหภูมิอยู่ในช่วง ±0.2% จากรอบการทำงานหนึ่งไปยังอีกรอบหนึ่ง ซึ่งเป็นปัจจัยที่ทำให้กระบวนการมีความเสถียรอย่างต่อเนื่องตลอดหลายพัน wafer&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;Why this matters in lithography and photoresist processing&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;งบประมาณความร้อนเป็นขอบเขตที่เข้มงวดในกระบวนการ lithography เครื่องอบนี้ช่วยรักษาชั้น photoresist ให้อยู่ในสภาพสมบูรณ์ ป้องกันการเกิด edge bead และขจัดการเปลี่ยนแปลง TTOP ที่เกิดขึ้นเมื่อมี gradient อุณหภูมิที่ไม่ได้รับการควบคุม&lt;br&gt;&#xA;ผลลัพธ์คือจำนวนงาน rework ลดลง การควบคุมมิติเชิงวิกฤตมีความแม่นยำมากขึ้น และประสิทธิภาพของความกว้างเส้นที่เชื่อถือได้ การใช้พลังงานลดลงเนื่องจากการใช้ heater แบบ recirculation ที่มีประสิทธิภาพสูงและการทำงานแบบ duty cycling ที่ชาญฉลาดโดยไม่ชะลอการเร่งอุณหภูมิ&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;What you need to plan for&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;วางแผนจ่ายไฟฟ้าเฉพาะที่ 208 V, 3-phase รวมถึงการเชื่อมต่อท่อระบายอากาศ cleanroom เพื่อรักษาความดันลบ การติดตั้งใช้เวลาหนึ่งกะ แต่ต้องทำการ mapping อุณหภูมิเต็มรูปแบบทั่วพื้นที่ carrier ในระหว่างการ qualification&lt;br&gt;&#xA;จัดเวลาการตรวจสอบความถูกต้อง 4 ชั่วโมงเพื่อกำหนดสูตรกระบวนการและยืนยันความสม่ำเสมอของอุณหภูมิในทุกช่องวาง wafer&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
