<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Покрывочный Материал on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D1%8B%D0%B2%D0%BE%D1%87%D0%BD%D1%8B%D0%B9-%D0%BC%D0%B0%D1%82%D0%B5%D1%80%D0%B8%D0%B0%D0%BB/</link>
		<description>Recent content in Покрывочный Материал on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:31:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D1%8B%D0%B2%D0%BE%D1%87%D0%BD%D1%8B%D0%B9-%D0%BC%D0%B0%D1%82%D0%B5%D1%80%D0%B8%D0%B0%D0%BB/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель инфракрасного излучения для процесса покрытия</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/ru/posts/coater-developer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:31:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/ru/posts/coater-developer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Нагреватель инфракрасного излучения для процесса покрытия&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе литографии отклонение температуры в размере полуградуса Цельсия при процессах мягкой или жесткой обработки не является незначительным — это приводит к снижению качества продукции. Профили фоторезиста изменяются, критические размеры увеличиваются, и процесс нанесения покрытия становится менее точным. На этапах нанесения и отжига фоторезиста именно тепловые параметры определяют уровень повторяемости процесса.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Точность инфракрасного нагрева: однородность и повторяемость на уровне субмиллиметров&lt;/strong&gt;&#xA;Мы разработали инфракрасные нагреватели для процессов нанесения и отжига фоторезиста с использованием длинноволнового инфракрасного излучения с контролируемым распределением тепла. Благодаря этому температурное поле на поверхности пластины остается однородным на уровне субмиллиметров, что позволяет контролировать температуру с высокой точностью. Повторяемость процесса обеспечивается за счет использования замкнутых систем калибровки и стабильного контроля эмиссивности поверхностей. Таким образом, каждый процесс нанесения фоторезиста проходит одинаково, независимо от серии или смены работы. Речь идет не о достижении максимальной температуры, а о контроле всего теплового режима, под которым находится фоторезист.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
