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		<title>Vapor on Direct Infrared Heating Supply</title>
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				<title>Aquecedor CVD (Deposição Química em Fase Vapor)</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Aquecedor CVD (Deposição Química em Fase Vapor)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No chão de fábrica, uma variação de 0,5°C no aquecedor da câmara de CVD é suficiente para tirar a espessura de deposição da especificação — e isso significa que a linha para. É necessário um aquecedor que mantenha a temperatura onde realmente importa, no plano do wafer, não apenas no sensor. E tem que fazer isso sem gerar partículas ou aumentar a variabilidade.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que importa tecnicamente&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Projetamos o aquecedor de CVD focando na uniformidade térmica ao nível do wafer — ±0,1°C ao longo do susceptor. Esse tipo de estabilidade é o que mantém a estequiometria e o estresse do filme sob controle. O corpo de quartzo e o elemento de infravermelho de onda curta reduzem a inércia térmica, permitindo que as &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;transi&lt;/a&gt;ções de aquecimento e estabilização se repitam, ciclo após ciclo.&lt;/p&gt;</description>
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