Aquecedor infravermelho para desenvolvedor de revestimento

Sat, 27 Jun 2026 05:31:04 +0800

Na etapa de litografia, uma variação de meio grau Celsius durante o processo de cura do fotoresist não é um desvio pequeno – é, na verdade, uma perda de qualidade no produto final. Os perfis do fotoresist mudam, as dimensões críticas se alteram, e o processo de cura deixa de funcionar como deveria. Nos equipamentos de aplicação e desenvolvimento do fotoresist, é nessa fase que a repetibilidade do processo se mantém ou falha.

Precisão do Aquecimento por Infravermelho: Uniformidade e Repetibilidade em Nível Submilimétrico

Desenvolvemos os aquecedores por infravermelho para aplicação e desenvolvimento do fotoresist com base em um design de ondas curtas, garantindo uma distribuição uniforme do calor. Isso permite um controle preciso da temperatura na superfície da wafer, dentro de limites muito estreitos. A repetibilidade é alcançada através de calibração em circuito fechado e gestão estável da emissividade, tornando possível que cada processo de cura seja realizado da mesma maneira, lote após lote, turno após turno. Não se trata de atingir a temperatura máxima, mas sim de controlar todo o conjunto térmico que afeta o fotoresist.

Revestidor on Direct Infrared Heating Supply

Aquecedor infravermelho para desenvolvedor de revestimento

Precisão do Aquecimento por Infravermelho: Uniformidade e Repetibilidade em Nível Submilimétrico