Aquecedor infravermelho para wafer após limpeza

Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800

Na fase pós-limpeza, é possível fazer tudo corretamente, até mesmo o processo de secagem, mas ainda assim pode haver perdas de qualidade se a wafer secar de maneira desigual ou se houver variações na temperatura durante o processo de secagem. A irregularidade na temperatura se manifesta em marcas indesejadas na superfície da wafer, bem como em bordas irregulares. Nós desenvolvemos aquecedores infravermelhos para uso pós-limpeza, com controle térmico preciso, exatamente onde é necessário – na superfície da wafer.

Secadora de limpeza de porta wafer

Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800

No piso da fábrica, você observa um porta-wafer saindo do banho de limpeza, apenas para ver a etapa de secagem dificultar o processo. Você conhece o procedimento—umidade residual, estresse térmico e partículas em suspensão que afetam diretamente o rendimento e causam defeitos no fotoresiste. A uniformidade térmica não é algo que se possa arriscar.

O que realmente importa no funcionamento interno
Este secador para porta-wafer mantém uma uniformidade térmica de ±0,1°C em toda a câmara, evitando pontos quentes e frios que comprometem a estabilidade do fotoresiste durante o soft bake e hard bake. Foi projetado para sala limpa Classe 1–100, com fluxo laminar e filtragem HEPA que mantém a contagem de partículas abaixo de 0,3 μm com 99,99% de eficiência.
A geração zero de partículas não é apenas um slogan—é uma especificação, verificada por metrologia inline. A repetibilidade do perfil térmico se mantém dentro de ±0,2% de ciclo a ciclo, o que garante a estabilidade do processo lote após lote, em milhares de wafers.

Limpeza on Direct Infrared Heating Supply

Aquecedor infravermelho para wafer após limpeza

Secadora de limpeza de porta wafer