Refletor para lâmpada de cura de wafers

Fri, 17 Jul 2026 08:16:58 +0800

Como obter precisão térmica adequada na fábrica de semicondutores

Quando se trata do processo de cura dos wafer, o calor é fundamental. Mas é preciso manter um equilíbrio delicado. Se o calor não for distribuído de maneira uniforme, podem ocorrer deformações ou depósitos químicos que comprometem a qualidade dos wafer. Para evitar isso, utilizamos sistemas de IR de alta refletividade. Basicamente, esses sistemas refletem a energia de volta para o substrato. Em uma fábrica moderna, não basta simplesmente aumentar a temperatura – é preciso utilizar sistemas de mapeamento em tempo real e recuperar a energia que, caso contrário, seria desperdiçada.

Fábrica certificada de lâmpadas de cura por infravermelho

Thu, 02 Jul 2026 09:52:44 +0800

Na linha de produção, uma variação de 2°C durante o processo de cura do fotoresist é suficiente para estragar todo o trabalho realizado. As lâmpadas de cura por infravermelho certificadas eliminam esse risco, fornecendo um aquecimento preciso exatamente onde é necessário – secagem das pastilhas, cura do fotoresist em etapas diferentes, cura do material de preenchimento e limpeza. Tudo isso requer um controle rigoroso da temperatura.

O que é importante, do ponto de vista técnico
Essas lâmpadas utilizam fontes de luz no infravermelho próximo (NIR), ajustadas de modo a proporcionar um aquecimento rápido e uniforme, com controle preciso sobre o espectro de luz. Isso permite uma uniformidade de temperatura de até ±0,1°C na área de cura, o que permite um controle eficaz sobre as propriedades do filme fotolítico e evita quedas na produtividade.

Curar on Direct Infrared Heating Supply

Refletor para lâmpada de cura de wafers

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Fábrica certificada de lâmpadas de cura por infravermelho