Na linii litograficznej delikatne odchylenia temperatury w trakcie procesu termicznego stanowią poważny problem, którego nie można dostrzec, dopóki sprzęt CD-SEM nie zacznie wysyłać sygnałów ostrzegawczych. Nawet niewielkie odchylenia na poziomie 0,5°C mogą sprawić, że kontrola wymiarów kluczowych produktu zostanie zaburzona. Stworzyliśmy specjalną lampę emitującą promieniowanie podczerwone, aby skutecznie ograniczyć te odchylenia.
Co jest istotne pod maską urządzenia
Używamy emiterów podczerwonego światła o krótkich falach, które działają dzięki szybkim elementom kwarcowym. Dzięki temu nagrzewanie jest szybkie i skupione w jednym miejscu. Opóźnienia termiczne są minimalne. Podczas procesu termicznego fotograficznego utrzymujemy jednorodność temperatury na poziomie ±0,1°C w całej strefie obróbki, a powtarzalność wartości temperatury wynosi ±0,5°C pomiędzy poszczególnymi partiami produktu.
Ustawienia lampy są dostosowane tak, aby zapewnić odpowiednią temperaturę dla materiału fotograficznego – bez przegrzewania ani niedogrzewania. Ponadto eliminujemy tworzenie się cząstek. Lampa nadaje się do stosowania w pomieszczeniach o czystości klas 1–100. Jej profil termiczny spełnia międzynarodowe standardy dotyczące sprzętu semikondukcyjnego. Jest to rozwiązanie proste w implementacji i sprawdzone w praktyce.
Dlaczego to jest przydatne w produkcji
Dzięki temu uzyskujemy stabilne parametry procesu, co oznacza mniej konieczności ponownej obróbki produktów. Szybkie ustabilizowanie temperatury umożliwia skrócenie czasu procesu bez pogorszenia jakości produktu. Zużycie energii zmniejsza się, ponieważ ciepło jest kierowane tam, gdzie jest potrzebne, a nie na grzanie ścian komory.
Niezawodność urządzenia jest gwarantowana – urządzenie może pracować przez ponad 5 000 godzin z stratą wydajności poniżej 5%. Dzięki temu można utrzymać ciągłą produkcję i uniknąć nieplanowanych przerw.
Praktyczne szczegóły
Instalacja polega na dostosowaniu rozmiarów lampy oraz jej interfejsu do istniejących urządzeń używanych w procesie produkcji. Konieczna jest nieco pracy inżynierskiej i elektrycznej – nic poważnego, ale należy to uwzględnić przy planowaniu.
Konfiguracja urządzenia zajmuje krótki czas – wystarczy dostosować parametry termiczne do specyfiki materiału fotograficznego i podłoża. Po kalibracji parametry procesu pozostają stabilne.