Infraroodverwarmer voor de wafer na reiniging

Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800

Tijdens het proces kan alles precies worden geregeld, tot en met de droogtijd na het reinigen. Toch kan er nog steeds een probleem optreden als de wafer ongelijkmatig droogt of als de temperatuur niet stabiel blijft. Onregelmatigheden in de temperatuur leiden tot problemen zoals watervlekken, oppervlakteschade en oneffenheden aan de randen van de wafer. We hebben onze infraroodverwarmers speciaal ontworpen om deze problemen te voorkomen. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer nauwkeurig geregeld.

Droger voor het reinigen van wafer carriers

Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800

Out on the fab floor, je ziet een wafercarrier uit het reinigingsbad komen, alleen om vervolgens te zien dat de droogstap tegenwerkt. Je kent het proces—restvocht, thermische spanningen en zwevende deeltjes die rechtstreeks leiden tot defecten in opbrengst en photoresist. Thermische uniformiteit is geen kwestie van gokken.

Wat er daadwerkelijk toe doet onder de motorkap
Deze wafercarrier reinigingsdroger houdt ±0,1°C thermische uniformiteit over de hele kamer, zodat er geen hete of koude plekken ontstaan die de stabiliteit van de photoresist tijdens soft bake en hard bake verstoren. Hij is ontworpen voor cleanroom Class 1–100, met laminaire luchtstroming en HEPA-filtratie die het aantal deeltjes onder 0,3 μm houdt met 99,99% efficiëntie.
Nul deeltjesgeneratie is geen marketingterm—het is een specificatie die wordt geverifieerd met inline metrologie. De herhaalbaarheid van het thermische profiel blijft binnen ±0,2% van cyclus tot cyclus, wat zorgt voor een stabiel proces, keer op keer, over duizenden wafers.

Wafer on Direct Infrared Heating Supply

Infraroodverwarmer voor de wafer na reiniging

Droger voor het reinigen van wafer carriers