<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wafel on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/ms/tags/wafel/</link>
		<description>Recent content in Wafel on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/ms/tags/wafel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk wafer selepas proses pembersihan</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk wafer selepas proses pembersihan&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses pembersihan selepas proses pengeluaran, segala-galanya boleh dilakukan dengan betul, namun masih ada kemungkinan berlaku masalah jika wafer dikeringkan secara tidak sekata atau suhu pemanasan tidak konsisten. Ketidakkonsistenan suhu akan menyebabkan masalah seperti adanya bintik-bintik air pada permukaan wafer, serta masalah lain yang berkaitan dengan permukaan wafer itu sendiri. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang digunakan selepas proses pembersihan untuk mengatasi masalah-masalah ini, dengan kawalan suhu yang tepat pada permukaan wafer itu sendiri.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
