<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Perisai on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/ms/tags/perisai/</link>
		<description>Recent content in Perisai on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 06:25:46 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/ms/tags/perisai/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/ms/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 06:25:46 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/ms/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, proses pembakaran bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu saja. Perubahan suhu sebanyak ±1.5°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu dimensi kritis &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;komponen&lt;/a&gt; tersebut, dan ini akan menjejaskan kualiti produk secara drastik. Pelindung lampu memainkan peranan penting dalam menjaga kestabilan suhu – ia berfungsi sebagai penghalang antara sumber tenaga dan wafer tersebut. Dengan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;adanya&lt;/a&gt; pelindung ini, haba dapat dikawal dengan baik, atau sebaliknya, variasi suhu boleh berlaku.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina pelindung kaca kuarsa untuk lampu-lampu tersebut berdasarkan dua prinsip utama: keseragaman suhu dan kawalan zarah-zarah kecil. Komposisi kaca kuarsa membolehkan cahaya inframerah berfrekuensi pendek dan sederhana dipindahkan dengan efektif, sehingga pola haba yang terhasil selaras dengan lengkung penyerapan bahan fotoresist. Reka bentuk pelindung ini disesuaikan agar suhu di permukaan wafer kekal stabil, dalam lingkungan ±0.1°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
