http://ir-heat-direct.com/ms/tags/pembersihan/ Recent content in Pembersihan on Direct Infrared Heating Supply Hugo ms Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800 http://ir-heat-direct.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800 http://ir-heat-direct.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas inframerah untuk wafer selepas proses pembersihan"></p> <p>Dalam proses pembersihan selepas proses pengeluaran, segala-galanya boleh dilakukan dengan betul, namun masih ada kemungkinan berlaku masalah jika wafer dikeringkan secara tidak sekata atau suhu pemanasan tidak konsisten. Ketidakkonsistenan suhu akan menyebabkan masalah seperti adanya bintik-bintik air pada permukaan wafer, serta masalah lain yang berkaitan dengan permukaan wafer itu sendiri. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang digunakan selepas proses pembersihan untuk mengatasi masalah-masalah ini, dengan kawalan suhu yang tepat pada permukaan wafer itu sendiri.</p> http://ir-heat-direct.com/ms/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800 http://ir-heat-direct.com/ms/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ <p><img src="http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pengering pembersih pembawa wafer"></p> <p>Out on the fab floor, anda memerhatikan wafer carrier keluar dari tab mandi pembersihan, namun langkah pengeringan memberi cabaran. Anda sudah biasa dengan situasi ini—kelembapan sisa, tekanan terma, dan zarah udara yang menembusi terus ke dalam menyebabkan kecacatan pada hasil dan fotoresist. Keseragaman terma bukan sesuatu yang <a href="https://o-yate.net">boleh</a> dipertaruhkan.</p> <p><strong>Apa yang sebenarnya penting di bawah penutup</strong></p> <p>Pengering pembersihan wafer carrier ini mengekalkan keseragaman terma ±0.1°C di seluruh ruang, supaya tiada titik panas atau sejuk yang merosakkan kestabilan fotoresist semasa proses soft bake dan hard bake. Ia dibina untuk bilik bersih Kelas 1–100, dengan aliran udara laminar dan penapisan HEPA yang mengekalkan jumlah zarah di bawah 0.3 μm pada kecekapan 99.99%.</p>