<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>청소 on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/ko/tags/%EC%B2%AD%EC%86%8C/</link>
		<description>Recent content in 청소 on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/ko/tags/%EC%B2%AD%EC%86%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>청소 후 웨이퍼용 적외선 히터</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/ko/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/ko/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;청소 후 웨이퍼용 적외선 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;가공 과정에서는 세척 이후의 단계까지 모든 것을 제대로 수행할 수 있지만, 웨이퍼가 고르게 건조되지 않거나 소결 과정에서 문제가 생기면 여전히 문제가 발생할 수 있습니다. 온도의 불균일성은 워터마크, 표면 균열, 가장자리의 유분 현상 등으로 나타납니다. 저희는 이러한 문제들을 해결하기 위해 세척 후 웨이퍼를 가열하는 인파란레드 히터를 개발했습니다. 이 히터는 웨이퍼 표면에서 정확한 온도 제어가 가능하여 문제를 예방해줍니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>웨이퍼 캐리어 세척 건조기</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/ko/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/ko/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 캐리어 세척 건조기&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;공정 현장에서 웨이퍼 캐리어가 세척 욕조에서 나오면 건조 과정에서 문제가 발생하는 것을 확인하게 된다. 경험상 알다시피 잔류 수분, 열 스트레스, 그리고 수율과 포토레지스트 결함을 직접적으로 유발하는 공기 중 입자들이 문제다. 열 균일성은 절대로 간과할 수 없는 요소다.&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;실제로 중요한 핵심 사항&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;이 웨이퍼 캐리어 클리닝 드라이어는 챔버 내에서 ±0.1°C의 열 균일성을 유지하여, 소프트 베이크 및 하드 베이크 중 포토레지스트 안정성을 해치는 온도 편차 지점을 방지한다. 클린룸 Class 1–100 등급에 맞게 설계되었으며, 라미나 플로우와 HEPA 필터링을 통해 0.3 μm 이하 입자 수를 99.99% 효율로 관리한다.&lt;br&gt;&#xA;입자 발생 제로는 단순한 슬로건이 아니라 명확한 사양이며, 인라인 메트롤로지를 통해 검증된다. 열 프로파일 반복성은 사이클 간 ±0.2% 이내로 유지되어 수천 장의 웨이퍼에 걸쳐 공정 안정성을 보장한다.&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;이것이 리소그래피 및 포토레지스트 공정에서 중요한 이유&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;열 예산은 리소그래피에서 엄격한 경계 조건이다. 이 드라이어는 포토레지스트 층을 손상 없이 유지하고, 엣지 비드 현상을 방지하며, 온도 구배가 관리되지 않아 발생하는 TTOP 변동을 제거한다.&lt;br&gt;&#xA;결과적으로 재작업 로트 수가 감소하고, 크리티컬 디멘션 제어가 강화되며, 신뢰할 수 있는 라인 폭 성능이 확보된다. 또한 고효율 재순환 히터와 스마트 듀티 사이클링 덕분에 에너지 소비가 줄어들면서도 가열 속도는 저하되지 않는다.&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;계획 시 고려 사항&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;전용 208 V, 3상 전원 공급과 음압 유지를 위한 클린룸 배기 연동이 필요하다. 설치는 1교대 내에 완료 가능하지만, 자격 검증 과정에서 캐리어 전면에 대한 전면적인 열 맵핑 작업이 요구된다.&lt;br&gt;&#xA;공정 레시피 확정 및 슬롯별 균일성 확인을 위해 4시간 가량의 검증 시간을 확보해야 한다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
