Riscaldatore a infrarossi per wafer dopo la pulizia

Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800

Durante la fase di pulizia post-litografia, è possibile fare di tutto, fino al processo di essiccazione, ma si possono comunque verificare problemi se il wafer si asciuga in modo non uniforme o se le condizioni di cottura non sono corrette. L’irregolarità della temperatura si manifesta sotto forma di segni visibili sulla superficie del wafer, nonché di difetti ai bordi dello stesso. Abbiamo progettato dei riscaldatori a infrarossi per la fase di pulizia post-litografia, al fine di eliminare tali problemi, garantendo un controllo termico preciso proprio sulla superficie del wafer.

Essiccatore per la pulizia dei portawafers

Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800

Sulla linea di produzione, osservi un portawafers uscire dal bagno di pulizia, per poi assistere alla fase di asciugatura che ti mette alla prova. Conosci bene la situazione: umidità residua, stress termico e particelle sospese nell’aria che compromettono resa e causano difetti nel photoresist. L’uniformità termica non è un fattore su cui si possa rischiare.

Cosa conta realmente sotto la superficie
Questo asciugatore per portawafers mantiene un’uniformità termica di ±0,1°C all’interno della camera, evitando punti caldi e freddi che comprometterebbero la stabilità del photoresist durante i cicli di soft bake e hard bake. È progettato per cleanroom Class 1–100, con flusso laminare e filtrazione HEPA che mantengono il conteggio particellare sotto i 0,3 μm con un’efficienza del 99,99%.
La generazione zero di particelle non è uno slogan, ma una specifica verificata tramite metrologia in linea. La ripetibilità del profilo termico resta entro ±0,2% da ciclo a ciclo, garantendo stabilità di processo su migliaia di wafer.

Pulizia on Direct Infrared Heating Supply

Riscaldatore a infrarossi per wafer dopo la pulizia

Essiccatore per la pulizia dei portawafers