Lampada per cottura a infrarossi a bassa temperatura

Mon, 29 Jun 2026 07:52:08 +0800

Nella fase di litografia, le piccole variazioni di temperatura durante il processo di riscaldamento rappresentano un fattore che può compromettere la qualità dei prodotti, e tali variazioni non vengono percepite finché il CD-SEM non inizia a segnalare problemi. Una variazione di 0,5°C sul wafer può far sì che il controllo delle dimensioni critiche diventi impossibile. Abbiamo progettato una lampada a infrarossi per ridurre al minimo tali variazioni.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Utilizziamo emettitori a infrarossi a breve lunghezza d’onda, dotati di elementi in quarzo ad alta risposta; questo permette un riscaldamento rapido e localizzato. Il ritardo termico è minimale. Per quanto riguarda il riscaldamento del fotoreostante, manteniamo una uniformità della temperatura sul wafer entro i ±0,1°C nell’intera zona di lavorazione. La ripetibilità dei valori di temperatura rimane invece entro i ±0,5°C da lotto a lotto. L’intensità della luce viene regolata in modo da non superare i limiti richiesti dal fotoreostante; inoltre, il livello di generazione di particelle è ridotto al minimo. La lampada è adatta per essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100. Il profilo termico è conforme agli standard internazionali per le attrezzature semiconduttoristiche. Si tratta di una soluzione semplice da implementare, già testata in contesti reali.

Morbido; Soffice on Direct Infrared Heating Supply

Lampada per cottura a infrarossi a bassa temperatura