Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Mon, 27 Jul 2026 09:51:30 +0800

Un modo migliore per asciugare le wafer MEMS: perché abbiamo scelto l’uso delle onde infrarosse
Siamo onesti: il metodo tradizionale di asciugatura delle wafer è davvero disordinato. Bisogna fare i conti con solventi chimici, metalli pesanti e quei velenosi gas organici volatili che trasformano una sala pulita in qualcosa di simile a un laboratorio dove gli esperimenti chimici vanno storti.
Abbiamo deciso di abbandonare tutto questo. Ora utilizziamo il riscaldamento a onde infrarosse. È un metodo più pulito, ecologico, e funziona davvero meglio.

Lampada asciugatrice a display flessibile fab

Mon, 01 Jun 2026 02:57:06 +0800

On the track, il substrato si muove con quel ritmo costante e prevedibile—silenzioso e ripetibile. Si applica il photoresist, si rimuove il bordo di perline, e il wafer scivola nel forno di asciugatura. Qui si definisce il budget termico: soft bake per estrarre il solvente, hard bake per fissare l’adesione e mantenere stabile il comportamento durante lo sviluppo.

Con substrati flessibili, non si ha la stessa tolleranza che si ha con il vetro. La non uniformità di temperatura non è solo uno spostamento della larghezza linea. Introduce stress nel pacchetto, favorisce delaminazioni e genera particelle che possono proiettare ombra sull’intero film. Se la lampada di bake non funziona correttamente, si supera il budget difetti prima ancora che il reticolo entri in azione.

Asciugatura on Direct Infrared Heating Supply

Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

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