Essiccatore per la pulizia dei portawafers

Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800

Sulla linea di produzione, osservi un portawafers uscire dal bagno di pulizia, per poi assistere alla fase di asciugatura che ti mette alla prova. Conosci bene la situazione: umidità residua, stress termico e particelle sospese nell’aria che compromettono resa e causano difetti nel photoresist. L’uniformità termica non è un fattore su cui si possa rischiare.

Cosa conta realmente sotto la superficie
Questo asciugatore per portawafers mantiene un’uniformità termica di ±0,1°C all’interno della camera, evitando punti caldi e freddi che comprometterebbero la stabilità del photoresist durante i cicli di soft bake e hard bake. È progettato per cleanroom Class 1–100, con flusso laminare e filtrazione HEPA che mantengono il conteggio particellare sotto i 0,3 μm con un’efficienza del 99,99%.
La generazione zero di particelle non è uno slogan, ma una specifica verificata tramite metrologia in linea. La ripetibilità del profilo termico resta entro ±0,2% da ciclo a ciclo, garantendo stabilità di processo su migliaia di wafer.

Asciugacapelli on Direct Infrared Heating Supply

Essiccatore per la pulizia dei portawafers