http://ir-heat-direct.com/id/tags/pembersihan/ Recent content in Pembersihan on Direct Infrared Heating Supply Hugo id Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800 http://ir-heat-direct.com/id/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800 http://ir-heat-direct.com/id/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas inframerah setelah proses pembersihan wafer"></p> <p>Selama proses pembersihan, Anda dapat melakukan segala hal <a href="https://henruite.com">dengan</a> benar, termasuk proses pengeringan setelah pembersihan. Namun, masih ada kemungkinan terjadi penurunan kualitas wafer jika wafer tersebut tidak dikeringkan secara merata atau suhu pengeringannya tidak stabil. Ketidakseragaman suhu akan menyebabkan munculnya bintik-bintik pada permukaan wafer. Kami mengembangkan pemanas inframerah khusus untuk proses pembersihan, sehingga masalah-masalah tersebut dapat diatasi. Kontrol suhu yang akurat memungkinkan proses pengeringan berjalan dengan baik di permukaan wafer itu sendiri.</p> <p><strong>Hal-hal yang penting secara teknis</strong><br> Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat dan kontrol spektral yang ketat. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu hingga ±0,1°C pada substrat berukuran 150–300 mm. Repeatabilitas suhu juga mencapai ±0,2°C dari satu sesi ke sesi berikutnya. Dengan demikian, proses-proses yang membutuhkan tingkat kestabilan suhu yang tinggi, seperti proses pengeringan setelah pembersihan, dapat berjalan dengan baik. Platform ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan desain yang mencegah masuknya partikel selama proses operasi.</p> http://ir-heat-direct.com/id/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800 http://ir-heat-direct.com/id/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ <p><img src="http://ir-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pengering pembersih pembawa wafer"></p> <p>Di lantai fab, Anda mengamati wafer carrier keluar dari bak pembersih, lalu menyaksikan tahap pengeringan yang justru menjadi tantangan. Anda sudah paham risiko—kelembapan sisa, stres termal, dan partikel udara yang langsung menembus hingga menyebabkan cacat pada yield dan photoresist. Keseragaman termal bukan sesuatu yang bisa Anda pertaruhkan.</p> <p><strong>Apa yang sebenarnya penting di balik proses</strong></p> <p>Pengering pembersih wafer carrier ini mempertahankan keseragaman termal ±0,1°C di seluruh <a href="https://o-yate.net">ruang</a> kamar, sehingga tidak terjadi titik panas atau dingin yang merusak stabilitas photoresist selama soft bake dan hard bake. Perangkat ini dirancang untuk cleanroom Kelas 1–100, dengan aliran udara laminar dan filtrasi HEPA yang menjaga jumlah partikel di bawah 0,3 μm dengan efisiensi 99,99%.</p>