Di area litografi, fluktuasi suhu saat proses pemanasan merupakan faktor yang merusak kualitas produk, tetapi hal ini tidak akan terlihat sampai alat CD-SEM mulai menunjukkan masalah. Perbedaan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat kontrol dimensi kritis menjadi tidak akurat. Kami mengembangkan lampu pemanasan inframerah khusus untuk mengurangi fluktuasi suhu tersebut.
Apa yang penting dalam prosesnya? Kami menggunakan elemen kuarsa yang responsif cepat, sehingga proses pemanasan berjalan secara cepat dan terfokus di titik yang ditentukan. Keterlambatan termal minimal. Untuk proses pemanasan fotoresist, kami menjaga agar suhu di seluruh permukaan wafer tetap konstan pada kisaran ±0,1°C. Repeatabilitas suhu juga dipertahankan pada kisaran ±0,5°C antara satu batch dengan batch lainnya.
Keluaran dari lampu tersebut disesuaikan sesuai dengan kebutuhan termal fotoresist—tidak ada overshoot maupun underbake. Kami juga memastikan agar tidak ada partikel yang terbentuk selama proses pemanasan. Lampu ini cocok digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100. Profil termalnya juga telah divalidasi sesuai standar peralatan semikonduktor internasional. Ini merupakan solusi yang sudah terbukti efektif di pabrik-pabrik produksi.
Mengapa ini berguna dalam produksi? Kinerja dimensi kritis yang stabil adalah hasil yang didapatkan, sehingga jumlah produk yang harus diperbaiki pun berkurang. Proses pemanasan yang cepat memungkinkan siklus pemanasan berlangsung lebih cepat tanpa mengorbankan kualitas produk. Penggunaan energi pun berkurang, karena panas hanya digunakan untuk memanaskan bagian yang diperlukan, bukan dinding ruangan.
Keandalan peralatan ini sangat tinggi; peralatan ini dapat beroperasi hingga 5.000 jam tanpa penurunan kinerja lebih dari 5%. Dengan demikian, proses produksi dapat berjalan secara kontinu, tanpa intervensi tak terduga.
Rincian teknisnya: Proses pemasangan lampu ini cukup sederhana, yaitu dengan menyesuaikan ukuran dan antarmuka lampu dengan sistem yang sudah ada. Diperlukan sedikit integrasi mekanis dan elektrikal, tetapi hal ini tidaklah rumit. Proses kalibrasi membutuhkan waktu singkat agar profil termal sesuai dengan spesifikasi fotoresist dan substrat yang digunakan. Setelah dikalibrasi, proses produksi akan berjalan lancar.