Capteur IR de précision pour wafer

Mon, 27 Jul 2026 10:01:50 +0800

Arrêtez d’attendre que votre four soit prêt : pourquoi le chauffage par rayonnement infrarouge est supérieur pour le traitement des wafer
Si vous utilisez encore de l’air chaud pour le traitement des semi-conducteurs, vous attendez en fait que la pièce se réchauffe avant de pouvoir commencer à travailler. C’est lent.
La convection par air est vraiment inefficace. Il faut d’abord chauffer l’air, puis c’est l’air qui réchauffe le wafer. Il y a donc un temps d’attente gênant, pendant lequel on doit juste attendre que la température augmente.
Le rayonnement infrarouge change les choses.
Au lieu de chauffer l’air autour du wafer, le rayonnement infrarouge atteint directement sa surface grâce aux radiations électromagnétiques. C’est comme essayer de se réchauffer les mains en chauffant toute la pièce, plutôt que de les placer simplement devant une cheminée.

Précision on Direct Infrared Heating Supply

Capteur IR de précision pour wafer