<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Post on Direct Infrared Heating Supply</title>
		<link>http://ir-heat-direct.com/fr/tags/post/</link>
		<description>Recent content in Post on Direct Infrared Heating Supply</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-direct.com/fr/tags/post/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Chauffage infrarouge pour wafer après nettoyage</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/fr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-direct.com/fr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Chauffage infrarouge pour wafer après nettoyage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur cette ligne de production, on peut tout faire correctement, y compris le séchage post-nettoyage. Cependant, des défauts peuvent encore apparaître si la wafer sèche de manière inégale ou si la température de séchage n’est pas bien contrôlée. L’inégalité de température se manifeste par des marques sur la surface de la wafer, ainsi que par des écailles ou des bulles aux bords. Nous avons conçu des chauffages infrarouges pour le séchage post-nettoyage, afin d’éliminer ces problèmes, avec un contrôle thermique précis directement sur la surface de la wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
