Arrêtez d’attendre que votre four soit prêt : pourquoi le chauffage par rayonnement infrarouge est supérieur pour le traitement des wafer
Si vous utilisez encore de l’air chaud pour le traitement des semi-conducteurs, vous attendez en fait que la pièce se réchauffe avant de pouvoir commencer à travailler. C’est lent.
La convection par air est vraiment inefficace. Il faut d’abord chauffer l’air, puis c’est l’air qui réchauffe le wafer. Il y a donc un temps d’attente gênant, pendant lequel on doit juste attendre que la température augmente.
Le rayonnement infrarouge change les choses.
Au lieu de chauffer l’air autour du wafer, le rayonnement infrarouge atteint directement sa surface grâce aux radiations électromagnétiques. C’est comme essayer de se réchauffer les mains en chauffant toute la pièce, plutôt que de les placer simplement devant une cheminée.
Le problème de l’attente
Nous avons tous déjà fait face au phénomène d’inertie thermique. C’est ce temps d’attente frustrant durant lequel la machine met du temps à atteindre sa température de fonctionnement.
Avec des capteurs et des émetteurs infrarouges, on peut atteindre la température souhaitée en quelques secondes, pas en minutes. Cela élimine le principal obstacle dans la chaîne de production et permet de travailler plus efficacement.
Moins de volume, plus de contrôle
Un autre avantage : l’espace requis.
Le système à air forcé nécessite des ventilateurs, des conduits et beaucoup d’espace physique. En revanche, les lampes infrarouges sont très compactes. On peut les placer directement près du substrat, ce qui permet d’obtenir une densité thermique bien supérieure.
Mais attention : on ne peut pas simplement installer ces dispositifs sans plus de précautions. Les lampes infrarouges à haute puissance émettent beaucoup de chaleur, qui peut se répandre dans le cadre de la machine. Si le système de refroidissement n’est pas suffisant, les capteurs peuvent commencer à donner des données erronées.
Plus d’efficacité
En fin de compte, passer au chauffage par rayonnement infrarouge, c’est avant tout gagner en efficacité. On cesse de lutter contre les contraintes liées au mouvement de l’air, et on utilise une énergie qui agit immédiatement. On passe moins de temps à attendre que la chambre se stabilise, et plus de temps à traiter les wafer.
C’est un échange simple : on renonce à la lenteur de la convection pour obtenir un résultat immédiat et contrôlable. Votre planning vous en remerciera.