Calentador por infrarrojos para obleas después del lavado

Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800

En la fase de post-limpieza, se puede hacer todo lo necesario, incluyendo el secado del wafer. Pero aún así, puede haber problemas si el wafer se seca de manera desigual o si la temperatura no se mantiene estable. La falta de uniformidad en la temperatura se manifiesta como marcas de agua, formación de capas superficiales y defectos en los bordes del wafer. Hemos diseñado calentadores infrarrojos para la etapa de post-limpieza con el fin de evitar estos problemas, logrando un control térmico preciso justo donde es importante: en la superficie del wafer.

Secador de limpieza de portadores de obleas

Mon, 01 Jun 2026 20:49:23 +0800

En la planta, observas cómo un portawafers sale del baño de limpieza, solo para ver cómo el paso de secado se vuelve un desafío. Conoces bien el proceso: humedad residual, estrés térmico y partículas en suspensión que afectan directamente el rendimiento y generan defectos en la capa de fotoresistente. La uniformidad térmica no es algo con lo que se pueda arriesgar.

Lo que realmente importa en detalle
Este secador para portawafers mantiene una uniformidad térmica de ±0.1°C en toda la cámara, evitando zonas calientes o frías que comprometan la estabilidad del fotoresistente durante los procesos de soft bake y hard bake. Está diseñado para salas limpias Clase 1–100, con flujo laminar y filtración HEPA que mantiene el conteo de partículas por debajo de 0.3 μm con una eficiencia del 99.99%.
La generación cero de partículas no es un lema, es una especificación verificada mediante metrología en línea. La repetibilidad del perfil térmico se mantiene dentro de ±0.2% ciclo a ciclo, lo que garantiza la estabilidad del proceso lote tras lote, a lo largo de miles de wafers.

Limpieza on Direct Infrared Heating Supply

Calentador por infrarrojos para obleas después del lavado

Secador de limpieza de portadores de obleas