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		<title>Post on Direct Infrared Heating Supply</title>
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				<title>Infrarotheizer für die Wafer nach der Reinigung</title>
				<link>http://ir-heat-direct.com/de/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:04 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-direct.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Infrarotheizer für die Wafer nach der Reinigung&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Nachbereich der Reinigung kann man alles richtig machen – bis hin zur Trocknung der Wafer. Dennoch kann es immer noch zu Problemen kommen, wenn die Wafer ungleichmäßig trocknen oder die Trocknungsprozedur nicht ordnungsgemäß abläuft. Temperaturunterschiede zeigen sich in Form von „Wassermarken“, Hautbildung auf der &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Oberfl&lt;/a&gt;äche der Wafer sowie Beulen an den Rändern. Wir haben unsere Infrarotheizer für die Nachreinigung so konzipiert, dass diese Probleme vermieden werden können – mit präziser Temperaturregelung direkt an der Waferoberfläche.&lt;/p&gt;</description>
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