Mengapa kita meninggalkan penggunaan udara terpaksa dan beralih kepada teknologi IR dalam proses pengeluaran semikonduktor
Jika anda pernah berada di bilik bersih yang menggunakan sistem lama, anda pasti tahu bagaimana cara kerjanya. Sistem tersebut menggunakan udara panas untuk mengekalkan suhu wafer pada tahap yang sesuai.
Masalahnya? Proses ini sangat lambat. Sistem udara terpaksa bergantung pada proses konveksi, yang sebenarnya bermaksud kita perlu menunggu sehingga udara tersebut memanaskan permukaan wafer. Dalam proses pengeluaran yang memerlukan kecekapan tinggi, kelewatan ini bukan sahaja menjengkelkan, tetapi juga menyebabkan kos yang tinggi.
Perbezaan sebenar antara IR dan konveksi
Teknologi pemanasan inframerah tidak bergantung pada udara. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Kita menggunakan lampu IR berfrekuensi rendah kerana ia dapat memanaskan wafer dengan cepat. Selain itu, sistem udara terpaksa berusaha keras untuk menyejukkan ruang tersebut, sedangkan teknologi IR tidak melibatkan hal tersebut. Energi dipancarkan tepat ke tempat yang diperlukan. Ini bermakna wafer boleh dipindahkan dari satu langkah proses ke langkah lain tanpa mengalami penurunan suhu yang drastik.
Cabaran yang perlu dihadapi (dan cara mengatasinya)
Anda tidak boleh sekadar menggantikan pemanas biasa dengan lampu IR saja. Anda perlu memastikan ketepatan intensiti tenaga yang digunakan. Lampu berkuasa tinggi menghasilkan haba yang banyak dalam ruang yang kecil. Jika jarak antara lampu dan wafer tidak tepat, ia akan menyebabkan kawasan tertentu menjadi terlalu panas. Untuk mengelakkan hal ini, kita disarankan untuk menggunakan pengawal PID. Tanpa kawalan yang tepat, haba yang berlebihan boleh merosakkan wafer. Jangan lupa tentang struktur kenderaan pengangkut wafer itu sendiri – ia perlu mampu menahan haba tanpa menyebabkan masalah pada sistem kawalan suhu di bilik bersih.
Apa manfaatnya bagi pengeluaran semikonduktor
Semakin banyak kilang pengeluaran semikonduktor yang beralih kepada teknologi IR kerana ia lebih efektif. Dengan menggunakan teknologi ini, kita tidak perlu bertentangan dengan hukum fizik, sebaliknya kita boleh bekerjasama dengannya. Dengan menghilangkan kelewatan pemanasan, jumlah wafer yang dapat dihasilkan setiap jam akan meningkat. Ia merupakan pertukaran yang mudah: kita dapat menggantikan sistem pengendalian udara yang rumit dengan tenaga radiasi yang tepat.