팹에서는 포토레지스트를 건조시킬 때 약 2°C의 온도 변동만 있어도 작업에 심각한 문제가 생길 수 있습니다. 인증된 적외선 경화 램프를 사용하면 이러한 위험을 없앨 수 있습니다. 이 램프는 웨이퍼 건조, 포토레지스트의 부드러운 경화 및 단단한 경화, 패키징 과정에서의 접착제 경화, 그리고 세척 및 건조 과정 등에서 필요한 정확한 온도를 제공합니다.
기술적으로 중요한 점은 무엇인가? 이 램프들은 근적외선(NIR)을 사용하여 빠르고 균일한 가열을 가능하게 합니다. 스펙트럼도 정밀하게 제어됩니다. 그 결과, 경화 구역 내에서 웨이퍼 전체의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지됩니다. 이를 통해 라인폭을 정확하게 제어할 수 있으며, 생산 효율도 높아집니다.
이 램프들은 처음부터 클린룸 클래스 1–100에 맞춰 설계되었습니다. 방출되는 가스가 적은 소재와 밀폐된 석영/할로겐 구조, 그리고 입자 발생을 최소화하는 기능이 있습니다. 입자가 전혀 발생하지 않는 것은 당연한 요구사항입니다. 이 시스템은 24/7으로 작동하며, 수천 시간 동안도 안정적인 성능을 유지합니다. 따라서 계획되지 않은 정지 시간도 발생하지 않습니다.
실제로 왜 이 방식이 효과적인가? 리소그래피에서는 점도와 접착력을 조절하기 위한 부드러운 경화 과정과, 포토레지스트의 용매를 제거하면서도 포토레지스트 자체가 손상되지 않도록 하는 단단한 경화 과정이 필요합니다. 패키징 과정에서는 접착제가 빠르게 경화되어야 하며, 조립체가 변형되지 않도록 해야 합니다. 세척 및 건조 과정에서는 잔류 수분이 아예 남아 있어서는 안 됩니다.
우리의 NIR 램프는 작업 주기를 줄여주면서도 공정 범위 내에서 작동합니다. 에너지 소비도 줄어듭니다. 왜냐하면 열이 필요할 때만 공급되기 때문입니다. 또한 반복성이 높아서 재작업이나 폐기물이 줄어듭니다.
계획할 때 고려해야 할 사항들 NIR 경화는 직선적인 경로로 이루어집니다. 기판의 형태, 반사율, 흡수율 등에 따라 흡수되는 에너지의 양이 달라집니다. 따라서 램프의 출력을 적절히 조절하고 스펙트럼 프로파일도 기판의 특성에 맞게 조정해야 합니다. 전체 웨이퍼를 커버하기 위해서는 램프의 크기가 조금 더 커질 수 있으므로, 클린룸 환경에 맞는 전기 및 열 관리가 필요합니다.
시스템이 적절하게 설정되면 공정 범위가 좁아집니다. 그리고 그게 바로 목적입니다.