Selama proses pembersihan, Anda dapat melakukan segala hal dengan benar, termasuk proses pengeringan setelah pembersihan. Namun, masih ada kemungkinan terjadi penurunan kualitas wafer jika wafer tersebut tidak dikeringkan secara merata atau suhu pengeringannya tidak stabil. Ketidakseragaman suhu akan menyebabkan munculnya bintik-bintik pada permukaan wafer. Kami mengembangkan pemanas inframerah khusus untuk proses pembersihan, sehingga masalah-masalah tersebut dapat diatasi. Kontrol suhu yang akurat memungkinkan proses pengeringan berjalan dengan baik di permukaan wafer itu sendiri.
Hal-hal yang penting secara teknis
Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat dan kontrol spektral yang ketat. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu hingga ±0,1°C pada substrat berukuran 150–300 mm. Repeatabilitas suhu juga mencapai ±0,2°C dari satu sesi ke sesi berikutnya. Dengan demikian, proses-proses yang membutuhkan tingkat kestabilan suhu yang tinggi, seperti proses pengeringan setelah pembersihan, dapat berjalan dengan baik. Platform ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan desain yang mencegah masuknya partikel selama proses operasi.
Mengapa hal ini efektif dalam praktiknya
Selama proses pembersihan, sinar inframerah dapat menembus struktur mikro pada wafer dan menghilangkan kelembapan tanpa menyebabkan kerusakan pada permukaan wafer. Dalam proses litografi, platform ini juga membantu menjaga stabilitas suhu selama proses pengeringan, sehingga proses penghilangan pelarut dan pembentukan lapisan film dapat berjalan dengan tepat. Proses pengeringan yang cepat juga mengurangi waktu yang dibutuhkan, sehingga limbah dan pekerjaan ulang menjadi lebih sedikit. Penggunaan energi pun tetap efisien, karena hanya wafer yang dipanaskan, bukan seluruh ruang.
Hal-hal yang perlu dipertimbangkan saat pemasangan
Anda perlu memastikan bahwa antarmuka alat serta saluran udara berfungsi dengan baik, sehingga tekanan dan suhu di ruang bersih tetap stabil. Pemanas-pemanas ini menggunakan standar komunikasi SECS/GEM. Jika alat ini digunakan pada platform lama, diperlukan braket khusus serta prosedur kalibrasi. Lakukan uji coba singkat untuk memastikan bahwa emisi panasnya sesuai dengan spesifikasi yang diinginkan.