Sur cette ligne de production, on peut tout faire correctement, y compris le séchage post-nettoyage. Cependant, des défauts peuvent encore apparaître si la wafer sèche de manière inégale ou si la température de séchage n’est pas bien contrôlée. L’inégalité de température se manifeste par des marques sur la surface de la wafer, ainsi que par des écailles ou des bulles aux bords. Nous avons conçu des chauffages infrarouges pour le séchage post-nettoyage, afin d’éliminer ces problèmes, avec un contrôle thermique précis directement sur la surface de la wafer.
Ce qui est important du point de vue technique Nous utilisons des chauffages infrarouges à ondes courtes, avec une réponse rapide et un contrôle spectral précis. Cela permet d’obtenir une uniformité de température de ±0,1°C sur des substrats de 150 à 300 mm. La répétabilité de la température est de ±0,2°C d’une séance à l’autre. Ainsi, les étapes nécessitant un contrôle strict de la température – comme le séchage doux, le séchage fort et le séchage post-nettoyage – restent dans les limites prévues. La plateforme est conçue pour être utilisée en environnement propre de classe 1–100, avec un système de contrôle des particules qui empêche leur accumulation pendant le fonctionnement.
Pourquoi cela fonctionne en pratique Après le nettoyage, les rayons infrarouges pénètrent dans les micro-structures de la wafer et éliminent l’humidité sans causer de dommages à sa surface. Ainsi, le séchage est immédiat et sans résidus. En lithographie, cette même plateforme permet de maintenir une température constante pendant le séchage doux, ce qui assure une extraction fiable des solvants et un profil de couche uniforme. Ensuite, on peut passer au séchage fort pour obtenir une durcissement complet de la couche. Le temps de traitement est réduit, et les erreurs de fabrication diminuent. De plus, la consommation d’énergie reste maîtrisée : c’est la wafer qui est chauffée, pas toute la chambre.
Ce qu’il faut prendre en compte lors de l’installation Il est nécessaire de bien organiser l’interface avec l’équipement et le système de ventilation, afin que la pression et la température dans l’environnement propre restent stables. Les chauffages utilisent le standard SECS/GEM. Mais si vous les intégrez dans une plateforme existante, il faudra utiliser des supports spéciaux et mettre en place une procédure de calibration. Planifiez également des essais de validation pour déterminer l’émissivité des chauffages et vérifier leur uniformité par rapport à votre stack de couches spécifique.