MEMS ওয়েফারগুলো শুকানোর আরও ভালো উপায়: কেন আমরা IR ব্যবহার করি?
সত্যি বলতে, ঐতিহ্যবাহী পদ্ধতিতে ওয়েফারগুলো শুকানো খুবই জটিল। এখানে রাসায়নিক দ্রবণ, ভারী ধাতু, এবং অন্যান্য ক্ষতিকারক পদার্থগুলো ব্যবহৃত হয়; ফলে ক্লিনরুমটি আর ল্যাবরেটরির মতো মনে হয় না, বরং এটা একটি ব্যর্থ রাসায়নিক পরীক্ষার মতো মনে হয়।
আমরা এসব পদ্ধতি বাদ দিয়েছি। এখন আমরা ইনফ্রারেড (IR) হিটিং ব্যবহার করি। এটা আরও পরিচ্ছন্ন, আরও টেকসই, এবং আসলেই এটাই সবচেয়ে ভালো উপায়।
এটা কীভাবে কাজ করে?
বেশিরভাগ মানুষ ওভেনের কথা ভাবেন—যেখানে বাতাসকে গরম করে ওয়েফারগুলো শুকানো হয়। কিন্তু এটা খুবই ধীর প্রক্রিয়া।
IR-এর ক্ষেত্রে ব্যাপারটা ভিন্ন। এটা যেন জুলাই মাসের বিকেলে সূর্যের আলোর মতো। ল্যাম্পগুলো তড়িৎচুম্বকীয় বিকিরণ ওয়েফারের ভিতরে পাঠায়। আমরা এটাকে এমন ফ্রিকোয়েন্সিতে সেট করি যাতে জলের অণুগুলো দ্রুত শুকিয়ে যায়।
এটা খুবই দ্রুত হয়।
কী ধরনের সমস্যা রয়েছে? আমরা কীভাবে সেগুলো সামলাই?
“লিড-ফ্রি” অবস্থা বজায় রাখার জন্য আমরা উচ্চ-গুণমানের ফিলামেন্টযুক্ত ল্যাম্প ব্যবহার করি। এগুলো গরম হওয়ার সময় কোনো বিষাক্ত পদার্থ নির্গত করে না; এটা কারখানার কর্মীদের জন্য খুবই সুবিধাজনক।
কিন্তু সমস্যা হলো: IR খুব ছোট জায়গায় অনেক তাপ উৎপন্ন করে। যদি ওয়েফারগুলোর ঘনত্ব ভিন্ন হয়, তাহলে “হট স্পট” তৈরি হতে পারে। সাবধান না হলে সিলিকনগুলো ক্ষতিগ্রস্ত হতে পারে। এটা রোধ করার জন্য আমরা পালসড পাওয়ার সাপ্লাই ব্যবহার করি; আর কনভেয়ার বেল্টের গতি ও ল্যাম্পের দূরত্ব নিয়েও আমরা খুব সাবধান থাকি।
এর ফলে কী হয়?
যদি আপনি এখনও পুরানো রাসায়নিক পদ্ধতি ব্যবহার করছেন, তাহলে IR ব্যবহার করা খুবই সহজ।
সবচেয়ে ভালো ব্যাপার হলো: আপনাকে আর বিপজ্জনক বর্জ্য নিষ্কাশন নিয়ে চিন্তা করতে হবে না; আর সলভেন্টের ধোঁয়া দূর করার জন্য অতিরিক্ত খরচও করতে হবে না। এটাই উৎপাদন গতি কমানো ছাড়াই পরিবেশগত নিয়মগুলো মেনে চলার সবচেয়ে সহজ উপায়।
আর ফলাফলও ভালো হয়। এখানে আর সেই বিরক্তিকর দাগগুলো থাকে না; ওয়েফারগুলো পরিষ্কার অবস্থায়ই পাওয়া যায়।